iTomic MW系列批量式原子层沉积镀膜系统采用创新的批量型（mini-batch）腔体设计，可一次处理25片12英寸晶圆，适用于成膜镀率低，厚度要求高，以及产能要求高的关键工艺及应用。iTomic MW系列产品利用特有的流场设计，具有成膜速度快，占地面积小，产能高、使用成本低等优势，为存储芯片以及Micro-OLED显示器、MEMS等提供定制化量产的解决方案。

1、25片12寸晶圆（兼容8寸晶圆）MW ALD系统，适用于厚膜或生长率较低的工艺需求；

2、提供优异的薄膜片内（WiW）和片间（WtW）均匀性，更好地满足客户制程工艺需求；

3、薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、SiO₂等；

4、与炉管型设备相比，MW ALD系列在减少颗粒度的同时大大降低了热过程，避免芯片器件在制程中的热损伤。