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产品技术

半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

硅基微显示

iTronix®系列化学气相沉积系统

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泛半导体

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iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

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其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式 PEALD/PECVD集成镀膜平台延伸祝融系列概念，一体式设计实现氮化硅正膜、氧化铝/背膜、氧化硅/多晶硅钝化膜一站式完成，可实现单道产能翻倍，节省占地面积。ZR5000×3兼具先进的制造执行管理系统（MES）和自动导引车（AGV）对接功能。在提供超高产能的同时，最大程度降低设备的运营成本，为后PERC高效电池技术提供理想可靠的量产解决方案，引领光伏产业化高效电池制造。

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产品特点

用于 PERC, TOPCon, XBC等高效电池技术路线的应用

搭配高载片量的石墨舟设计

具备优异的薄膜厚度均匀性

精准制备薄膜：Al₂O₃, SiO₂, poly-Si(n+), poly-Si(p+), SiNx/ SiC/ SiON 等

提供 PERC/ TOPCon 量产工艺 PEALD/ PECVD 路线集成技术