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产品技术

半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

硅基微显示

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

泛半导体

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

集成电路

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积（CVD）系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用，可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。

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产品特点

高精度压力调节控制技术，提高薄膜阶梯覆盖率

可以控制膜的成份和结构，满足多元掺杂工艺需求

自主研发高精度制程边缘控制技术，减少晶圆去边，提高晶圆利用率

带ESC多区加热陶瓷盘，可以实现高温工艺，减少背面沉积，避免等离子体损伤

自主设计的多区域吹扫功能，减少颗粒污染，延长清洗周期

多区域温度控制设计，温度控制精度高，薄膜均匀性好