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半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

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MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

硅基微显示

iTronix®系列化学气相沉积系统

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iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

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其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

产业化应用中心

后羿®系列板式ALD系统

采用自主知识产权的真空腔内温场和流场设计，实现空间型原子层沉积镀膜工艺方式，为钙钛矿薄膜太阳电池组件产线提供高质量氧化物功能层薄膜材料，以确保量产组件的高效率和长寿命。面向平米级玻璃衬底，高速镀膜解决方案，适配线型产线的生产节拍，集成成熟的上下料自动化方案，为客户提供可靠的大规模量产解决方案。

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产品特点

适用于正式或反式、单结或叠层的钙钛矿薄膜太阳电池组件

针对平米级面积玻璃衬底，常用尺寸0.6×1.2 ㎡/1.2×2.4 ㎡可客户定制

制备氧化锡（SnOx）和氧化铝（AlOx）等高质量致密氧化物薄膜

优异的薄膜厚度面积均匀性，片内<5%，批间<5%

适配于大面积衬底线性产线的生产节拍60s/片@ 20nm