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产品技术

半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

硅基微显示

iTronix®系列化学气相沉积系统

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泛半导体

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

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其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTomic® HiK系列原子层沉积系统，适用于客户制程高介电常数（High- 𝘬 ）栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等薄膜工艺需求；ALD系列设备凭借原子级别的精确控制、沉积薄膜的高覆盖率和超薄膜厚的均匀性可为逻辑芯片、存储芯片提供介质层等关键工艺解决方案，技术和设备指标达到国内一流、国际先进水平。

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产品特点

12英寸单片热ALD量产设备（兼容8英寸）

采用原创设计的反应腔和源输送加热系统，可满足优异的薄膜均匀性和重复性，更适合三维和高深宽比器件结构的薄膜生长

薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、HfSiO、SiO₂、金属化等工艺

配置有4种独立的高温前驱体输送系统，满足ALD薄膜多元化掺杂工艺需求