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半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

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MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

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其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

泛半导体

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

iTomic® Lite轻型系列原子层沉积系统采用原创设计开发的自动化平台与模块化ALD反应腔相结合，以国产化零部件为主导，可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工艺需求。Lite ALD系列设备具有强大的兼容性，其硬件配置在保持量产机型强大功能的前提下，可满足各类晶圆尺寸（6、8英寸）量产工艺需求，同时也可满足客户高端研发和新工艺试量产需求。Lite ALD系列可广泛应用于MEMS、光电器件等泛半导体器件领域。

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产品特点

灵活兼容Thermal ALD和PEALD工艺应用

自由配置半自动或全自动系统

薄膜材料：Al₂O₃、SiO₂、TiO₂、ZnO、氮化物等

满足6、8英寸晶圆量产工艺需求

满足高端研发客户需求及新工艺的开发和量产